2)将通过进程1)处理后的硅溶胶中参加氟离子配位化合物，然后加热至欢腾并保温一
3)将通过进程2)处理后的硅溶胶进行阴离子交流，捕获含氟的阴离子物质，阴离子交
2.如权利要求1所述的办法，其特征是，所述硅溶胶的固含量在15％以下。
3.如权利要求1所述的办法，其特征是，所述强酸选用盐酸、稀硫酸中的一种。
5.如权利要求1所述的办法，其特征是，所述氟离子配位化合物的浓度为0.1～1mol/
7.如权利要求1所述的办法，其特征是，所述阴离子交流选用预先用氢氧化钠活化的
8.如权利要求1所述的办法，其特征是，所述阴离子交流完成后，向硅溶胶中pH调理
9.如权利要求1所述的办法，其特征是，所述pH调理剂选用氢氧化钠、氢氧化钾、氨
硅溶胶是硅晶圆、蓝宝石、石英玻璃等资料化学机械抛光(CMP)的磨料，在CMP进程
中供给机械研磨效果。硅溶胶的功能关于CMP的质量有明显影响。一般来说，硅溶胶的粒径
散布规模越窄，CMP质量越高，一起，硅溶胶的均匀粒径越大，CMP去除速率越快。某些CMP工
艺需求用到均匀粒径在70nm以下的小粒径硅溶胶磨料，因为硅溶胶制备工艺的原因，粒径
70nm以下硅溶胶中常常含有份额较高的40nm小粒径胶粒，这些胶粒粒径过小，供给的机械
研磨效果甚微，下降了抛光液的有用固含量。另一方面，很多小粒子的存在造成了较宽的粒
2)将通过进程1)处理后的硅溶胶中参加氟离子配位化合物，然后加热至欢腾并保
3)将通过进程2)处理后的硅溶胶进行阴离子交流，捕获含氟的阴离子物质，阴离
优选地，所述阴离子交流完成后，向硅溶胶中pH调理剂，将退溶胶调理至所需的pH
优选地，所述pH调理剂选用氢氧化钠、氢氧化钾、氨水、盐酸、硫酸中的一种。
子的无机配位化合物，这些物质能在加热条件下能可逆地分化发生氟离子，发生的微量氟
小胶粒比外表积大，单位固含量条件下外表羟基数多，胶粒间效果力强。关于固含
量30％的浓缩硅溶胶，很多小粒径胶粒的存在会明显提高硅溶胶的粘度，这关于CMP来说
是晦气的。选用本创造的办法除掉小粒径胶粒后，浓缩硅溶胶的粘度会有明显的下降。
等氟离子配位化合物很安稳，难以分化发生氟离子，因而就需求先将pH调整至酸性。
取1kg固含量在15％以下的稀硅溶胶，在拌和下向其间滴加5％盐酸(其他强酸亦
钠盐、钾盐和铵盐等。氟离子配位化合物的浓度依据硅溶胶固含量以及小粒径胶粒的含量
进行调整，一般为0.1～1mol/L。氟离子配位化合物的详细浓度以激光粒度仪强度峰测验结
果为准。若强度峰为对称单峰，阐明小粒径胶粒数量不多，运用挨近下限浓度氟离子配位化
合物即可；若强度峰左边拖尾，乃至构成别离的小粒径峰，阐明小粒径胶粒数量多，应恰当
将得到的溶液加热至欢腾并保温1～10小时，期间坚持拌和。操作场所应保证通风
通过以上处理，硅溶胶的pH为酸性，且含有少数的氟离子以及很多未反响的氟离
子配位化合物。将硅溶胶进行阴离子交流(树脂预先用氢氧化钠活化)，含氟的阴离子物质
均被阴离子交流树脂捕获，一起(1)参加的盐酸也被转化为水。阴离子交流后，硅溶胶的pH
为中性或极弱小的酸性。最终再依据本身的需求，向硅溶胶中增加氢氧化钠、氢氧化钾、氨水、盐
取1kg，固含量为10％，激光粒度仪散射强度粒径为55nm的硅溶胶，在拌和下参加
盐酸，将pH调整至2.0左右。参加10.0g氟硼酸(浓度1mol/L)，然后升温并坚持溶液弱小沸
腾，拌和1小时。冷却后进行阴离子交流，得到pH为6 .5～7的中性硅溶胶，在拌和下滴加
1mol/L氢氧化钠溶液，将硅溶胶pH调整至9.7～10.0，得到制品，表征成果见表1。
取1kg，固含量为15％，激光粒度仪散射强度粒径为60nm的硅溶胶，再拌和下参加
盐酸，将pH调整至1.0左右。参加180g六氟磷酸钠(浓度0.1mol/L)，然后升温并坚持溶液微
弱欢腾，拌和10小时。冷却后进行阴离子交流，得到pH为7的中性硅溶胶，在拌和下滴加
1mol/L氢氧化钾溶液，将硅溶胶pH调整至9.0，得到制品，表征成果见表1。
取1kg，固含量为15％，激光粒度仪散射强度粒径为45nm，pH为4.0的酸性硅溶胶。
因为其pH为酸性，因而无需再参加盐酸进行pH调理。参加90g氟硅酸钠(浓度为0.5mol/L)，
然后升温并坚持溶液弱小欢腾，拌和4小时。冷却后进行阴离子交流，得到pH为7的中性硅溶
胶，在拌和下滴加1mol/L磷酸，将硅溶胶pH调整至3.0，得到制品，表征成果见表1。
处理前后的电镜相片见图1A和图1B，可见处理后小粒径胶粒数量有削减，粒径一
人员对本创造的技能计划进行的恰当修正或许同等替换，均应涵盖于本创造的维护规模
