一般地,硅溶胶是纳米二氧化硅在水中的涣散液,其成分最简略,主要是纳米二氧化硅、水以及少数的稳定剂(Na+、K+、NH4+等),可是硅溶胶中还有Fe2+、Ca2+、AI3+等金属杂质以及SO42-、CI-、NO3-等酸根杂质。
(1)作为硅溶胶低端运用的铸造、耐火材料、涂料等范畴对硅溶胶的纯度没有特别的条件,这些范畴运用的硅溶胶中钠含量可以到达1000-2000ppm。
(2)催化剂运用范畴会对硅溶胶的金属含量有必定要求,过高的金属杂质含量会影响催化功率,一般要求Na含量要小于1000ppm。但催化剂品种十分之多,也有较高要求的,比方要求硅溶胶中的钠离子含量小于100ppm。
(3)芯片抛光范畴对硅溶胶的要求最高,芯片制造的完好过程中要进行很屡次的抛光,对某些场合要求硅溶胶中金属杂质的含量要小于1ppm。